12月25日，国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的直写式光刻机在合肥问世，标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面将被打破。图为科研人员展示一张刻有电子芯片电路图的成品晶元。

    新华网合肥１月１３日电（记者熊润频）国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的无掩膜光刻机日前在合肥面世。由中国工程院院士张钟华、叶声华等专家组成的鉴定组在鉴定后认为，芯硕半导体（中国）有限公司的“光刻机”技术，填补了国内光刻机在该项领域的空白，并且在国际同类产品中处于先进水平。

    记者从芯硕半导体公司了解到，该公司此项技术投入资金５０００万元，历经一年时间，两台光刻机已于去年１２月正式下线，其分辨率已达到０．６５微米。相对于同类产品，芯硕的“光刻机”具有污染小、产能高、运行成本低、应用范围广、操作便捷等多项优势。芯硕半导体公司董事、副总裁胡亦宁预测，在今年７月、８月公司新厂房完工之后，预期每年可生产１００台，其中６０％的产品将供应给海外市场。

    我国半导体设备业是半导体和集成电路产业链中最薄弱的环节之一，但在此之前，国内对于半导体芯片制造中最核心的设备——光刻机的需求，却全部依赖进口，国产品牌的亚微米级光刻机还是空白。芯硕半导体公司生产的直写式光刻机将为中国光刻机技术的发展奠定坚实基础。此外，相关负责人表示，该公司计划今年年底生产第一台掩膜式光刻机，继续向高端半导体技术进行挑战。